- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
本產品為桌面型小型蒸發鍍膜儀，設備安裝有鎢絲籃蒸發源，可提供*大100A的鍍膜電流，*大蒸發溫度可達1800℃，能夠滿足各種常見金屬的蒸鍍及部分非金屬蒸鍍。真空腔體采用不不銹鋼制作，配合分子泵組可達到5x10-5Pa極限真空，能夠滿足絕大部分材料蒸發所需的真空環境；同時設備采用高罐體及水冷樣品臺設計，能夠減少蒸發源對樣品的熱輻射，保證樣品的表面不超溫，維持在室溫水平，有效防止樣品被熱蒸發的高溫損壞，尤其適合對各種聚合物薄膜樣品進行鍍膜。
桌面型小型蒸發鍍膜儀技術參數：
|
產品名稱 |
桌面型水冷樣品臺蒸發鍍膜儀 |
|
|
產品型號 |
CY-EVZ195-I-H-SS-SJ |
|
|
樣品臺 |
外形尺寸 |
直徑φ70mm |
|
可調溫度 |
≦500℃ |
|
|
熱蒸發源 |
金屬蒸發源鎢舟1個 |
|
|
蒸發電源 |
每個蒸發源配一組獨立電源；三個蒸發源可同時共蒸 |
|
|
真空腔體 |
腔體尺寸 |
直徑φ195mm，高度350mm |
|
觀察窗口 |
直徑φ60mm |
|
|
腔體材質 |
304不銹鋼 |
|
|
開啟方式 |
前開門式 |
|
|
膜厚測量 |
晶體膜厚測量儀（也可選膜厚控制儀） |
|
|
真空系統 |
前級泵 |
雙極旋片泵，氣體抽速1.1L/S |
|
次級泵 |
渦輪分子泵,氣體抽速600L/S |
|
|
真空測量 |
復合真空計(電離規+電阻規) |
|
|
系統真空 |
5×10-4Pa |
|
|
控制系統 |
CYKY自研專業級控制器 |
|
|
其他參數 |
供電電源 |
AC380V,50Hz |
|
整機尺寸 |
600mm×600mm×750mm |
|
|
整機功率 |
1200W |
|
|
整機重量 |
950kg |
|
