- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
適合的應(yīng)用:
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)單晶鉆石
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石自支撐厚膜
化學(xué)氣相沉積法制備高品質(zhì)多晶鉆石薄膜
化學(xué)氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和鉆石膜等各種碳納米薄膜
產(chǎn)品特點：
本產(chǎn)品為不銹鋼腔體式6kw微波等離子體設(shè)備，功率密度高；
水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔，保證系統(tǒng)能長時間穩(wěn)定工作；
基片溫度以微波等離子體自加熱方式達(dá)到；
真空測量儀表采用全量程真空計，可**測量本底真空和工作氣體壓強；
真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1×10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為1Pa)，系統(tǒng)可自動控制沉積氣壓；
配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，確保裝置高功率下可長時間**穩(wěn)定運行；
系統(tǒng)帶15寸觸摸屏，PLC自動控制，可設(shè)置溫度或氣壓恒定，可保存復(fù)用多達(dá)20套工藝文件；
全自動工藝控制模塊，可以穩(wěn)定可靠地制備高品質(zhì)鉆石薄膜和晶體
技術(shù)指標(biāo)與特性：
|
項目名稱 |
規(guī)格 |
配置 |
|
主控單元 |
|
PLC 自動程控 |
|
微波源 |
6kw 2.45Ghz |
微波電源 |
|
微波發(fā)生器 |
||
|
波導(dǎo) |
6kw |
三銷釘 |
|
模式轉(zhuǎn)換器 |
6kw |
|
|
諧振腔體 |
6kw |
柱形水冷腔體 |
|
基臺 |
φ70mm |
電動升降 |
|
鉆石生長基本參數(shù) |
|
7x7mm 37片 8x8mm 29片 9x9mm 21片 10x10mm 13片 |
|
MFC（質(zhì)子流量計） |
5路 |
Ch4 0-500sccm H2 0-500sccm N2 0-500sccm Ar 0-500sccm O2 0-500sccm |
|
測溫元件 |
|
高精度紅外測溫儀 |
|
真空測量 |
|
高精度真空計 |
|
分子泵 |
|
默認(rèn)無/可選 |
|
氫氣純化 |
|
9N級 |
|
水循環(huán) |
|
3P水冷機 |
